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nanoArch P150 25μm高精密3D打印系統(tǒng)是科研級(jí)3D打印系統(tǒng)，擁有25μm的打印精度和10μm的超低打印層厚，具備優(yōu)良的光源穩(wěn)定性，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

nanoArch P140 10μm精度微納3D打印系統(tǒng)是科研級(jí)3D打印系統(tǒng)，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

光敏樹(shù)脂3D打印機(jī)作為一種常見(jiàn)的3D打印技術(shù)，具有高精度、高速度、多材料等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛應(yīng)用于制造、醫(yī)療、藝術(shù)設(shè)計(jì)等領(lǐng)域。

nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技術(shù)，是目前行業(yè)極少能實(shí)現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。

microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統(tǒng)基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開(kāi)發(fā)的多項(xiàng)技術(shù)。摩方PμSL是一種微米級(jí)精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹(shù)脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時(shí)間，并通過(guò)打印平臺(tái)三維移動(dòng)逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。